化学蒸着
金属製品熱処理用語の”拡散浸透処理”に分類されている用語のうち、『化学蒸着』のJIS規格における定義その他について。
鉄鋼及び非鉄金属からなる機械部品、ジグ、工具、金型などの金属製品の熱処理に関する主な用語として、金属製品熱処理用語（JIS B 6905）において、”拡散浸透処理”に分類されている用語には、以下の、『化学蒸着』の用語が定義されています。
金属製品熱処理用語（JIS B 6905）
⇒【拡散浸透処理】
分類： 金属製品熱処理用語 > 拡散浸透処理
番号： 4335
用語： 化学蒸着
定義：
気相化学反応によって、製品の表面に薄膜を形成する処理の総称（13）。
注（13）
JIS H 0211 参照。
備考１．
CVDともいう。（※1）
備考２．
常圧CVD（atmospheric pressure CVD）（※2）、
減圧CVD（low pressure CVD）（※3）、
プラズマCVD（plasma CVD）（※4）、
レーザCVD（laser CVD）（※5）
などがある。
対応英語（参考）：
chemical vapor deposition,
CVD
（※1）
化学蒸着は、CVDとも略されますが、化学気相成長ともいわれます。
（※2）
常圧CVDとは、大気圧雰囲気中でのCVDのことで、大気圧CVDともいいます。
APCVDとも略されます。
（※3）
減圧CVDとは、大気圧より低い減圧雰囲気中でのCVDのことで、低圧CVDともいいます。
LPCVDとも略されます。
（※4）
プラズマCVDとは、反応ガス（原料ガスとも言われ、膜形成時に使用される膜成分を含むガス）をプラズマ（総電荷量がゼロであるようなイオンや電子などの電荷粒子と、原子、分子などの中性粒子からなる気体）状態にし、活性なラジカルやイオンの生成のもとで化学反応を行わせるCVDのことです。
熱プラズマCVD、直流プラズマCVD、高周波プラズマCVD、マイクロ波プラズマCVD、電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD、燃焼炎CVDなどがあります。
（※5）
レーザCVDとは、反応ガス（原料ガスとも言われ、膜形成時に使用される膜成分を含むガス）の励起エネルギーとしてレーザを用いるCVDのことです。
レーザの波長によって紫外線レーザCVDと赤外線レーザCVDとに分類されます。
